德國INFICON薄膜沉積控制器

更新時間：2023-07-21

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德國INFICON薄膜沉積控制器

INFICON是儀器，關鍵傳感器技術和過程控制軟件的提供商，這些產品可復雜工業真空工藝的生產率和質量。這些分析，測量和控制產品對于空調/制冷和汽車制造中的氣體泄漏檢測。對于光學和平面顯示器，太陽能電池和工業真空鍍膜應用中的半導體和薄膜鍍膜的復雜制造，它們對于設備制造商和終用戶。我們基于真空的工藝的其他用戶包括生命科學，研究，航空航天，包裝，熱處理，激光切割和許多其他工業工藝。我們還利用我們在真空技術方面的知識來提供的，

INFICON薄膜沉積控制器：

IC6薄膜沉積控制器

XTC / 3薄膜沉積控制器

Cygnus®2薄膜沉積控制器

SQC-310薄膜沉積控制器

產品應用說明：

INFICON薄膜沉積控制器IC6沉積控制器允許使用QCM傳感器控制沉積過程的速率。從基本的功能到大的功能，INFICON均可提供沉積控制器以滿足您的需求。市場的 NFICON 薄膜沉積控制器、監測器和 QCM 測量儀能夠以無可匹敵的測量速度和精度控制復雜過程的沉積率和厚度。高級軟件和邏輯 I/O 功能使我們的薄膜沉積控制器/QCM 測量儀能夠完全集成到真空系統中，從而實現自動過程控制。控制不那么復雜的過程時，可使用 INFICON 經濟型精密控制器、監測器和 QCM 測量儀，它們的薄膜測量精度比傳統技術高出 100 倍。

典型的 QCM 系統包括石英晶體 (感測裝置)、晶體支架 (傳感器，用于固定晶體并實現與晶體的電氣連接)、用于驅動晶體的振蕩器 (對于 ModeLock 測量儀，則為 XIU)、控制器或監測器 (用于讀取沉積率和厚度并存儲過程參數)。INFICON 既可提供完整的 QCM 系統，又可提供為研究應用設計的單個部件。

IC6薄膜沉積控制器在INFICON薄膜沉積控制器成熟的性能基礎上，增添了更多的功能，可幫助您實現沉積過程的價值。IC6使用我們的ModeLock頻率測量系統，提供穩定，逐步的速度和厚度測量，額定分辨率可達每1/10秒0.00433?/ s，是行業中的佼佼者。IC6具有其他石英晶體控制器擬的性能，品質和功能，確認您的過程卓越的可重復性。

主要技術參數：

INFICON ModeLock技術獲得，穩定的速率和厚度測量分辨率，即使在速率的情況下

Auto Z技術通過自動測定沉積材料的Z比值，可厚度測量的精度

支持多六個來源同時共沉積

彩色TFT LCD顯示屏使用戶很容易看到過程的進展狀況

100ms樣本速率下頻率范圍為+/- 0.0035 Hz

U數據存儲功能可存儲屏幕截圖，配方存儲和數據記錄

強大的I / O能夠充分利用其可集成的簡單或復雜的系統(使用可擴展輸入(28)和輸出(24繼電器，14 TTL輸出)，并充分利用邏輯功能(100個邏輯語句)

6個標準DAC輸出和另6個可選輸出的源控制，速率或厚度監控

可容納多50個過程，每個過程200層，這些過程關聯到一起，總共可容納10,000層。

多路傳感器可平均分配為8個傳感器

4米XIU選件能夠在大型系統中使用替代的真空傳感器電纜